System 80Plus开放式样品载入等离子体刻蚀与沉积设备
该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 System800Plus具有最大的工艺灵活性，用于化合物半导体，光电子器件，光子器件及应用，可配置进行电感耦合等离子体法（ICP）刻蚀和沉积（ICP-PECVD） ，反应离子刻蚀（RIE） ，等离子体刻蚀（PE）或等离子体增强化学气相沉积（PECVD）。
开放式的样品载入可快速进样取样，是理想的原型研究和少量生产的设备。
工艺：
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有关我们的工艺性能数据的细节，请与我们联系，例如：
- 用于MEMS、微流体、Si波导等的低温Si刻蚀和深度Si刻蚀
- SiO2, SiNx， 无NH3 SiNx沉积，用于硬膜、钝化等
- III - V族光电子器件的刻蚀
- SiO2 和 SiNx的低温等离子体化学气相沉积
- 图片
- 工艺技术
- 支持
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- 反应离子刻蚀 （RIE）
- 等离子体增强型反应离子刻蚀 （RIE-PE）
- 等离子体增强化学气相沉积 （ PECVD）
- 电感耦合等离子刻蚀（ ICP ）
我们的工作与我们的客户密切结合，以开发新的和根据客户应用需要而定制的工艺;请与我们联系以了解详细信息。
牛津仪器致力于支持我们客户的成功。 我们认识到，这需要世界一流的产品辅以世界一流的支持。 我们的全球服务在各地分部的支持下，可为你在世界任何地方提供快速支持。全球服务和支持
我们可以提供：
- 量身定制工的艺和服务协议，以满足您的需求
- 全方位的培训课程
- 快速获取原装备件和配件
- 系统升级和翻修
