| 等离子蚀刻与沉积
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工艺"'配方"的编写、储存和调出都通过同一软件,建立工艺数据库。 在盒到盒和集群系统中,用户可每个晶片的单独的程序联结在一起,并运行一套完整的工艺(一步、循环和重复)。 密码控制的用户登录允许不同级别的用户访问和工作:从'一键式'运行操作到使用所有系统功能。 持续不断的工艺数据记录,可以跟踪每个晶片和每步工艺,兼容GEM/SECS。
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