RIE/PE—反应离子刻蚀-等离子体刻蚀

RIE/PE Schematic PIE/PE示意图

反应离子刻蚀-等离子体刻蚀（RIE/PE）

1. 对光敏酰亚胺的各向同性等离子体刻蚀
2. 对聚酰亚胺的各向异性的反应离子刻蚀
3. 对氮化硅的各向同性的等离子体刻蚀
4. 对二氧化硅的各向异性的反应离子刻蚀

优点

1. 衬底电极被冷却
2. 顶电极或底电极射频驱动（13.56兆赫兹）
3. 自动开关
4. 喷淋头式进气口（在顶电极上)
5. 参数：气流、压强、射频功率

牛津仪器的反应离子刻蚀和等离子体刻蚀工具：