物理气相沉积（PVD）

典型的工艺压强：5-30毫托

1. 良好的台阶覆盖率
2. 针对高质量Al（含Si/CuTi）、TiN、TiW的标准方法
3. 最大 4 x 200mm 或 8 x 75mm阴极
4. 衬底置于旋转座上
5. 衬底座可以水冷却/加热（最高400oC）
6. 预刻蚀和射频偏压
7. 参数：气流、压强、射频功率

典型应用：

1. 高质量Al（含Si/Cu/Ti）
2. 扩散阻挡层TiN、TiW（反应溅射）
3. 电阻薄膜 （NiCr、TaN）
4. 贵金属：Au、Pt

 

特征	System400	System100
磁控管尺寸	最大200mm	最大200mm
磁控管个数	4 x 200mm	单个
射频和直流选择	可以	可以
射频偏压	可以	可以
进样	真空进样	真空进样
衬底	见手册	见手册
质量流量计控制的气体管线	典型的最大到4个	典型的4个
载片台温度范围	20到300ºC

 

 

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