Kelvinox400HA为最苛刻要求的实验而设计,要求最低的样品腔温度(小于7mk)以及最强的冷却功率(100mk温度时功率超过400µW)。与这些技术指标相容的是,Kelvinox®400HA 同时提供了广泛的系统接口。
系统提供了增强型的实验接口:
| 最低温度 | ≤ 7 mK |
| 最低温度时温度稳定性 | ± 1 mK |
| 最高温度 | 1 K |
| 连续操作 | 标准 |
| 样品环境 | 真空 |
| 制冷功率 100 mK 时 | ≥ 400 µW |
| 制冷功率 120 mK 时 | ≥ 580 µW |
| 滑动密封 | 包含 |
| 3He/4He 混合气 | 包含 |
自动化的智能控制系统KevinoxIGH,可以自动化控制气柜等设备 :
全部系统可以通过 KelvinoxIGH 全自动操作,也可以通过National Instruments的LabVIEWTM软件系统自动操作。可选项:
稀释过程:

当氦3氦4混合气冷却到870mK以下时,开始分离成两相。较轻的是富含氦3的凝聚相,较重的是富含氦4的稀释相。氦3在两种相中的浓度依赖于温度。由于氦3在两种相中的焓是不同的,通过从凝聚相中向稀释相蒸发氦3,可以得到制冷效果。
如果使凝聚相和稀释相的分离,并且在混合室中形成相分界面,则在此处可以发生制冷过程。
为了获得持续的制冷过程,需要使氦3连续地通过相分界面。如果将和混合室相连的蒸馏室中稀释相温度升高到大概700 mK,在这个温度下,氦3的蒸汽压要比氦4大两个数量级,那么氦3能够被使用室温环境中的机械泵,或者吸附泵优先抽取到,由此可以得到连续的氦3通过相分界面的流动,形成制冷功率。被泵抽走的氦3重新回到系统中,通过1K池冷凝,蒸馏室预冷,在连续热交换器中和来自混合室的退出气流进行热交换,进一步冷却至150mK,然后一系列的银烧结阶梯热交换器,从100mK到冷却到20mK,并最终重新进入混合腔,开始新的制冷循环。
为了防止热辐射影响制冷平台,稀释单元和1K池位于真空中,同时由辐射屏隔开了环绕着热交换器和混合室的下面样品空间的蒸馏室和100mK冷盘。
通过适当的设计,可以利用稀释制冷机得到低于5mK的温度。
样品的放置是一个非常直截了当的过程:
| 科研领域 |
应用 |
实验技术 |
| 半导体材料 | 量子霍尔效应 量子点 单电子隧穿 量子计算 |
磁阻测量 霍尔效应 RF 输运 高频电导 |
| 固体物理 | 重费米子体系 金属绝缘体相变 自旋体系 杂乱体系 GMR |
比热 DeHaas-van Alphen Oscillations Solid state NMR 电阻 磁阻 中子散射 |
| 超导材料 |
Low Tc 超导
量子计算 约瑟夫森效应 磁旋 |
电阻 扫描电镜(STM/AFM) 超流 交流磁化率 |
|
天体学
宇宙学
|
低温探测器
超导隧穿
锗辐射热测定器
|
电热测量 偏压测量 低能光子探测 |
| 计量标准 | 量子霍尔效应 电压标准 电流标准 |
磁阻测量 DC & AC 低频输运 单电子隧穿 |