干法刻蚀LiNbO3—刻蚀铌酸锂

干法刻蚀LiNbO3—刻蚀铌酸锂

技术:

• 平行板系统
• 冷却的基板电极
• 13.56兆赫兹等离子体激励

结果:

• 速率:大约3纳米/分钟
• 对钛掩模的选择比大约20:1
• 光滑的底部

(本速率可以通过增加转移到铌酸锂上的掩模面而提高)

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