硅烷化光刻胶的干法显影（感应耦合等离子体-反应离子刻蚀）—硅烷化光刻胶

硅烷化光刻胶的干法显影

• 感应耦合等离子体--反应离子刻蚀
• 分别控制离子能量和离子电流密度
• 非常有效的衬底冷却

结果：

• 速率：大约150 纳米/分钟
• 均匀性：150mm直径晶片内公差+ 4%
• 外形：各向异性