溅射刻蚀Au—溅射刻蚀金

刻蚀0.5微米金

感应耦合等离子体采用氩气溅射刻蚀金的速率大于120纳米/分钟

• 反应离子刻蚀中，对光刻胶的选择比大约1：1
• 反应离子刻蚀中，一批12片的均匀性公差小于+/- 7 %
• 反应离子刻蚀或者感应耦合等离子体刻蚀中，单片4/6英寸片内均匀性公差小于+/- 4 /5 %

对于一些要求不高的应用，平行板反应室（反应离子刻蚀）是一种首选的离子束系统，因为它具有更好的产量/成本比。