薄膜成分及厚度测量：ThinFilmID
ThinFilmID可以在SEM上对1nm厚度的薄膜进行原位
厚度及成分测量。
ThinFilmID可以利用EDS对多层薄膜的每一层进行厚度
及成分测量
该技术集多种功能于一体，检测快捷，分析简便。
厚度及成分测量。
ThinFilmID可以利用EDS对多层薄膜的每一层进行厚度
及成分测量
该技术集多种功能于一体，检测快捷，分析简便。
- 优点
空间解决测量--可分析样品上的某一细节点
完美的纳米尺度侧面分析--受（电子束在样品上的）作用体积控制，低加速电压下只有几百nm。（大多数薄膜分析技术只能达到mm尺度）
能测量薄膜的组分和/或厚度
能量范围达到2nm~1000nm
能测量包括衬底在内多达7层结构和16种元素。
非破坏性，不需要制作样品的横截面
最简化的样品制备--节省时间和费用
直接在当前的SEM及INCA能谱上应用，不需要独特的硬件。
完美的纳米尺度侧面分析--受（电子束在样品上的）作用体积控制，低加速电压下只有几百nm。（大多数薄膜分析技术只能达到mm尺度）
能测量薄膜的组分和/或厚度
能量范围达到2nm~1000nm
能测量包括衬底在内多达7层结构和16种元素。
非破坏性，不需要制作样品的横截面
最简化的样品制备--节省时间和费用
直接在当前的SEM及INCA能谱上应用，不需要独特的硬件。
