应用

阻挡层，如铜扩散阻挡层
金属电极

每周期生长速率：350oC下， 0.38埃/周期
电阻率：15 x10-6 欧姆•厘米

为什么采用远程等离子体原子层沉积？

远程等离子体确保衬底基板和等离子体之间没有接触
远程等离子体裂解分子，以便活性粒子用于生长过程。
这些活性粒子通常能够对衬底进行非常有效的等离子体预清洗，从而获得更清洁的薄膜和更低的沉积温度。

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