沉积La2O3—沉积氧化镧

用于原子层沉积的紧凑型开放进样式系统

等离子体气：氧气
不和水发生热化学反应

计量被在190oC鼓泡的快速脉冲原子层沉积阀控制
沉积温度：250-300 oC
0.18 埃/周期（300oC下的饱和剂量）折射率 1.72至1.74

为什么采用远程等离子体原子层沉积？
远程等离子体确保衬底基板和等离子体之间没有接触
远程等离子体裂解分子，以便活性粒子用于生长过程。
这些活性粒子通常能够对衬底进行非常有效的等离子体预清洗，从而获得更清洁的薄膜和更低的沉积温度。