沉积HfN—沉积氮化铪（远程等离子体完全辅助）

用于原子层沉积的紧凑型开放进样式系统

远程等离子体确保衬底基板和等离子体之间没有接触

远程等离子体裂解分子，以便活性粒子用于生长过程。

这些活性粒子通常能够对衬底进行非常有效的等离子体预清洗，从而获得更清洁的薄膜和更低的沉积温度。