二氧化铪反应离子束沉积（HfO2 RIBD）

使用Ionfab300Plus (LC)的HfO2 RIBD技术

• 预清洁：35cm的源可以对最大8英寸的衬底进行预清洁
• 沉积气体：Ar、O2
• 晶圆尺寸最大可以达到200mm
• 详细请见英文网站

注释：

1. 边缘有5mm的范围，均匀性的描述见下文

2. 沉积速率达到最大速率的50％以上时，应力和均匀性仍然可以得到保证

  Ionfab 300Plus for HfO2 RIBD

使用Optofab3000进行HfO2反应离子束沉积

• 沉积气体：Ar、O2
• 晶圆尺寸最大可以达到200mm
• 详细请见英文网站

     Optofab 3000 for HfO2 RIBD