刻蚀、沉积和生长的产品和设备
牛津仪器生产多种类型的设备，为先进材料的微米和纳米级刻蚀、沉积和生长提供工艺解决方案。
这些解决方案是基于如下核心技术：等离子体刻蚀与沉积，原子层沉积（ALD） ，离子束蚀刻与沉积，纳米级生长系统，以及氢化物气相外延（ HVPE ）
请与我们联系 ， 商讨您更详细的设备要求。
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这些解决方案是基于如下核心技术：等离子体刻蚀与沉积，原子层沉积（ALD） ，离子束蚀刻与沉积，纳米级生长系统，以及氢化物气相外延（ HVPE ）
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