离子束沉积
相关产品:
Ionfab 300Plus Ionfab 500Plus
工艺类型
IBD-离子束沉积：Ionfab 300 plus (SC) and (LC), Ionfab 500 plus
IBD+辅助源：仅Ionfab 300 plus (SM) and (LC) ，辅助源也可用于样品预清洗
硬件
• 旋转和可倾斜的衬底支座（仅Ionfab 300 plus (SM) and (LC)）
• 沉积离子源：15厘米，13.56兆赫兹
• 等离子体桥中和器射束中和
• 气体通过源、辅助源进气并进入反应室
• 独立可变的参数：气流、离子能量、离子电流、加速电压、射束中和
• 多靶材，具有固定防护屏和旋转快门
• 第二个源作为辅助源来控制化学计量（例如，从金属靶材中沉积氧化物）或者预清洗（仅Ionfab 300 plus (SC) and (LC)）
重点应用
• 环形激光陀螺镜
• 大功率激光光学
• 引力波探测镜
• 天文仪器
• 抗反射和高反射镀膜（如激光器巴条）
优点
• 表面质量高
• 致密光滑的薄膜
• 非常低的散射
• 非常低的光学损失
• 每次工艺之间非常好的重复性
• 优异的均匀性
• 最大的灵活性
• 应用范围
• 工艺可重复性
• 低成本
离子束溅射沉积系统
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特点 |
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Ionfab 500Plus |
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靶材尺寸 |
8英寸 |
14英寸 |
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靶材数量 |
最多4个 |
最多3个 |
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载片台尺寸 |
最大8英寸 |
旋转载片台(4 x 10") |
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终端探测 |
双石英晶振监视器 |
双石英晶振监视器 |
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载片台旋转 |
最大转数20rpm (可以选择更高速) |
最大转数20rpm |
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载片台倾角 |
-90ºC到+75ºC |
不适用 |
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载片台温度 |
10ºC到300ºC |
不适用 |
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离子源 |
15cm 射频离子源 |
15cm射频离子源 |
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辅助或预清洁源 |
15或35cm射频离子源 |
不适用 |
