沉积工艺

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有了在沉积工艺发展上无比广泛的经验和我们应用工程师的支持， 牛津仪器向世界范围内的生产商和研发者提供沉积工艺解决方案的经验为我们提供了世界上最强大沉积工艺库和沉积工艺能力。
以下是牛津仪器等离子技术可以提供的一些沉积工艺的一个范例。请与我们联系，讨论您的特定需求，我们专业的销售和应用工作人员将很高兴帮助您选择合适的沉积工艺和工具，以满足您的需求。

 

选择一个组
电介质
沉积SiO2—沉积二氧化硅
沉积SiN—沉积氮化硅
二氧化硅(SiO2)的反应离子束溅射沉积(RIBD)技术
金属氮化物
沉积HfN—沉积氮化铪（远程等离子体完全辅助）
金属氧化物
沉积Al2O3-沉积三氧化二铝
高品质光学镀膜：二氧化硅，二氧化钛，五氧化二钽
二氧化铪反应离子束沉积（HfO2 RIBD）
沉积La2O3—沉积氧化镧
离子束沉积VaO( 5 - x )--沉积氧化钒 Deposition
沉积TiO2—沉积二氧化钛—离子束沉积
ZnO ALD（单热型）—沉积氧化锌原子层
沉积ITO—沉积铟锡氧化物—磁控溅射
金属
溅射沉积Al—溅射沉积铝
沉积Ru—沉积钌
其他
沉积a-Si—沉积非晶硅（等离子体增强化学气相沉积）
等离子体增强化学气相沉积和化学气相沉积SiGe—沉积锗硅
沉积PolySi—沉积多晶硅
沉积SiC—沉积碳化硅
等离子体增强化学气相沉积DLC—沉积类金刚石膜

 

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二氧化铪反应离子束沉积（HfO2 RIBD）
二氧化铪（HfO2）的反应离子束溅射沉积技术
二氧化硅(SiO2)的反应离子束溅射沉积(RIBD)技术
沉积PolySi—沉积多晶硅
等离子体增强化学气相沉积和化学气相沉积SiGe—沉积锗硅
沉积SiC—沉积碳化硅
等离子体增强化学气相沉积DLC—沉积类金刚石膜
沉积a-Si—沉积非晶硅（等离子体增强化学气相沉积）
沉积Ru—沉积钌
溅射沉积Al—溅射沉积铝
ZnO ALD（单热型）—沉积氧化锌原子层
沉积TiO2—沉积二氧化钛—离子束沉积
沉积La2O3—沉积氧化镧
离子束沉积VaO( 5 - x )--沉积氧化钒 Deposition
沉积ITO—沉积铟锡氧化物—磁控溅射
高品质光学镀膜：二氧化硅，二氧化钛，五氧化二钽
沉积Al2O3-沉积三氧化二铝
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沉积SiN—沉积氮化硅
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