原子层沉积的优点

• 因为原子层沉积工艺在每个周期内精确地沉积一个原子层，所以能够在纳米尺度上对沉积工艺进行完全控制
• 即使在非常高的纵横比和复杂结构的条件下，保形镀膜也能够实现
• 可实现无针孔和颗粒的沉积
• 
  很多种类的材料都可以采用原子层沉积:
  氧化物：包括HfO2, HfSiO, Al2O3, Ta2O5, TiO2, La2O3, SiO2, ZnO
  氮化物，包括TiN, TaN, AlN, SiNx, HfN
  金属，包括Ru, Cu, W, Mo

原子层沉积周期

1. TMA源

远程等离子体原子层沉积的优点

除了具有热原子层沉积的优点，远程等离子体允许更广泛地选择用作源的化学品，同时还提高薄膜质量:

• 等离子体能够实现低温的原子层沉积工艺，远程源能维持低的等离子体损伤
• 采用氢气等离子的更有效的金属源，而不是复杂的加热的源
• 消除了水作为一种源的需要，减少了每个原子层沉积周期之间的清洗次数--尤其是在低温条件下。
• 通过进一步的去除杂质来获得更高质量的薄膜，从而获得更低的电阻率、更高的密度、等。
• 能够控制化学计量
• 等离子体表面处理
• 对于某些材料可以采用等离子体清洗反应室

2. TMA清洗

原子层沉积的应用

包括:

• 高K值的栅极氧化物
• 储能电容器介质
• 用于有机发光二极管和聚合物的无针孔的钝化层
• 单晶硅太阳能电池的钝化
• 用于Cu互联的高纵横比的扩散阻挡层
• 黏合层
• 有机半导体
• 用于微流体和微机电系统应用的高保形镀膜
• 其他纳米技术和纳米电子应用
• 纳米孔结构的镀膜
• 燃料电池，如催化层的单种技术镀膜
• 生物微机电系统

3. O₂等离子体

4.短时间的后期O₂等离子体清洗