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ESCA+高性能X射线光电子能谱仪
宏观光路连续流恒温器OptistatCF-V,样品在真空中
1500系列PN 90505磨砂玻璃X光管
1500系列PN 90507小焦斑X光管
1500系列无窗X光管用于骨密度测量
4K无液氦光学窗口低温恒温器OptistatAC-V
4K无液氦光学窗口低温恒温器OptistatAC-V
5000系列50W 50kV 2-5mA封闭式X光管
5000系列75瓦封闭式X光管
5000系列Apogee封装X光管 50W电源和电线—OEM（成套设备用电源）
5000系列Apogee封闭式X光管
5000系列Apogee非封闭式X光管
5000系列HP封闭式X光管
5000系列Neptune—水冷X光管
5000系列TF5011非封闭式X光管
5000系列TF5025非封闭式X光管
5000系列X光管 50W电源和电缆—电源类型为LAB（试验室用）
5000系列X光管 75W电源和电缆—电源类型LAB(实验室用)
5000系列X光管50W电源和电缆—OEM(成套设备用)
5000系列X光管75W电源和电缆—OEM(成套设备用电源)
5000系列封闭式X光管—通用型
5000系列（在高外界环境温度下使用）
500系列TF5011/HP非封闭式X光管
6000系列60kV,60W封闭式X光管
6000系列60千伏X光管60W电源和电缆—OEM（成套设备用电源）
80 Kv 一体化X射线源
CMA 100
CMI153(便携式涂镀层测厚仪)
CMI165(带温度补偿功能的面铜测厚仪)
CMI233(便携式涂层测厚仪)
CMI243(便携金属镀层测厚仪)
CMI250(便携式涂镀层测厚仪)
CMI511(便携式孔铜测厚仪)
CMI563(便携式面铜测厚仪)
CMI730(台式涂镀层测厚仪)
CMI760(PCB专用铜厚测试仪)
CMI900(X荧光镀层测厚仪)
CMI900(X荧光镀层测厚仪)
CMI95M(便携式铜箔测厚仪)
CN 10
Compound Semiconductor Templates - TDI
Cryo-Plex 10 低温泵
Cryo-Plex 16 低温泵
Cryo-Plex 8 低温泵
Cryo-Plex 8LP (low profile) 低温泵
CrystalFlex ® -多晶片HVPE反应室
DAR 400
EBSD 数据分析软件
EBSD探头系统
EBSD采集软件
EKF 1000
EKF 300
FIG 05
FlexAL ®原子层沉积设备-ALD设备
GeoSpec（岩芯分析）
GST刻蚀——锗锑碲化物ICP刻蚀
HBr刻蚀Si—溴化氢刻蚀硅
ICP CVD——感应耦合等离子体-化学气相沉积
ICP刻蚀——感应耦合等离子体刻蚀
INCAEnergyTEM
INCASynergy
Ionfab ® 300Plus离子束刻蚀及沉积设备
IonFab ® 500Plus -高精度沉积离子束设备
ISE 100
ISE 200
ISE 5
Lab-X3500(X射线荧光光谱仪)
M125 氦气压缩机
M400 氦气压缩机
M600 氦气压缩机
MCP-LEED
MDX1000(X射线荧光光谱仪)
MQC台式磁共振分析仪
MULTISCAN Lab
NanoESCA
Nanofab 700 ™ -纳米生长设备
Nanofab 800Agile ™ -纳米生长设备
NanoSAM Lab
Neptune 水冷成套X射线源-Neptune 水冷X光管、100W电源和电缆
NGI 3000 (新品)
Nova 600 微焦斑X射线源　
OpAL ® -开放式样品载入ALD设备-开放式样品载入原子层沉积设备
Optofab ® 3000 -高品质光学镀膜系统
P/N90502无窗系列X光管-用于骨密度测量
PECVD-等离子体增强化学气相沉积
PlasmaProTM NGP80 – 下一代等离子体处理系统
PlasmaProTM System133－量产用的晶片批量处理设备
PVD-物理气相沉积
Q波段电子自旋共振谱仪低温恒温器CF935
RHEA 100
RIE/PE—反应离子刻蚀-等离子体刻蚀
RIE—反应离子刻蚀
SEM 20
SEM 250/500
SL 1000
SPA-LEED
SPECTALEED
Spellman X光管高压电源—3W-260W (LAB 实验室用)
STM针尖实现非接触式AFM测量（Q-Plus）
Super CMA
System 100 -等离子刻蚀与沉积设备
System 100Pro -单晶片加工的生产设备
System 133 - 300毫米大批量等离子体刻蚀与沉积设备
System 800Plus -开放式样品载入等离子体刻蚀&沉积设备
System 80Plus开放式样品载入等离子体刻蚀与沉积设备
Ta2O5 刻蚀——五氧化二钽刻蚀
TEM电制冷能谱系统X-Max
TEOS-传输模块- 正硅酸四乙酯传输模块
TF4045非封闭式X光管
TFGT-3050非封闭式 X光管
TF系列GT-5050非封闭式X光管
TF系列硅封闭式X光管
TiN的各向异性刻蚀—刻蚀氮化钛
WSi刻蚀—硅化钨刻蚀
X-MET5000(手持式XRF元素分析仪)
X-MET7000(手持式XRF元素分析仪)
X-Strata920(X荧光镀层测厚仪)
X-Strata920(X荧光镀层测厚仪)
X-Strata980(X荧光镀层测厚及痕量元素分析仪)
X-Strata980(X荧光镀层测厚及痕量元素分析仪)
X-Supreme8000(X射线荧光光谱仪)
XM 1000
XTF GT-5050封闭式X光管
XTF6011封闭式X射线管
X射线结晶学液氮制冷喷枪Cryojet 5
X波段电子自旋共振谱仪低温恒温器ESR900和ESR910
ZnO ALD（单热型）—沉积氧化锌原子层
µEtch ICP - ICP 失效分析工具
µEtch200—200mm晶片失效分析工具
µEtch300 - 300mm 晶片失效分析功能工具
µEtchEL – 入门级刻蚀工具
二氧化硅(SiO2)的反应离子束溅射沉积(RIBD)技术
二氧化铪反应离子束沉积（HfO2 RIBD）
二氧化铪（HfO2）的反应离子束溅射沉积技术
仪器测控开发程序Oxsoft IDK
低温刻蚀Si—低温刻蚀硅
低温扫描探针显微镜系统(LT SPM)
低温环境控制仪Mercury iTC
全谱直读光谱仪(FOUNDRY-MASTER COMPACT)
全谱直读光谱仪(FOUNDRY-MASTER PRO)
全谱直读光谱仪(FOUNDRY-MASTER UV)
全谱直读光谱仪(FOUNDRY-MASTER Xpert)
分析性电制冷能谱X-Act
分立线圈超导磁体
制冷机
刻蚀Al2O3—刻蚀氧化铝—感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石
刻蚀AlGaN/GaN/AlN——刻蚀氮化铝镓
刻蚀Al—感应耦合等离子体刻蚀铝
刻蚀Cr—刻蚀铬
刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓
刻蚀GaN—刻蚀氮化镓
刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓
刻蚀InAlAs—刻蚀砷化铟铝
刻蚀InGaAlP—刻蚀铝镓铟磷
刻蚀InP/InGaAsP—刻蚀磷化铟/铟镓砷磷
刻蚀InP—刻蚀磷化铟
刻蚀InSb—刻蚀锑化铟
刻蚀Mo—刻蚀钼
刻蚀Nb（反应离子刻蚀，感应耦合等离子体）—刻蚀铌
刻蚀Ni—刻蚀镍
刻蚀PbSe—刻蚀硒化铅
刻蚀PMMA—刻蚀聚甲基丙烯酸甲酯
刻蚀PR—刻蚀光刻胶
刻蚀PZT—刻蚀锆钛酸铅
刻蚀SiC—刻蚀碳化硅
刻蚀SiGe——刻蚀锗硅
刻蚀SiGe—刻蚀锗硅
刻蚀Ta—刻蚀钽
刻蚀Ti—超大刻蚀深度
刻蚀W—刻蚀钨
刻蚀ZnSe—反应离子刻蚀硒化锌
刻蚀聚酰亚胺—聚酰亚胺的刻蚀
刻蚀金刚石—金刚石的刻蚀
单级脉冲管制冷机
博施刻蚀Si—博施刻蚀硅
反应离子刻蚀ITO—刻蚀铟锡氧化物
变温扫描探针显微镜系统(VT SPM)
各向同性刻蚀Si—硅的各向同性刻蚀
在反应离子刻蚀或感应耦合等离子体系统中溅射刻蚀Pt—溅射刻蚀铂
在线目录
在蓝宝石衬底上外延生长氮化铝镓（AlGaN）的技术
外延生长AlN—用于III-V氮化物外延的氮化铝层
外延生长InN—氮化铟外延材料
外延生长InxGa1-xN—外延氮化铟镓
外延生长氮化铝作为III-V族氮化物的外延生长衬底
大面积电制冷能谱探测系统：X-Max-----保证分辨率123eV
宏观光路连续流恒温器OptistatCF,样品在交换气中
定制超导磁体
室温扫描探针显微镜系统(RT SPM)
干法刻蚀LiNbO3—刻蚀铌酸锂
干法刻蚀LiTaO3—刻蚀钽酸锂
微焦斑X射线源
感应耦合等离子体刻蚀BCB—刻蚀苯并环丁烯
感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te3—刻蚀碲化铋
扫描凯尔文探针显微镜（Scanning Kelvin Probe Microscopy; SKPM）
扫描电镜能谱系统：INCAEnergy
无液氦氦3低温恒温器Triton 3He
无液氦氦3低温恒温器Triton 3He
无液氦氦三恒温器HelioxAC-V
无液氦氦三恒温器HelioxAC-V
无液氦稀释制冷机Triton200/400
无液氦稀释制冷机Triton200/400
无液氦稀释制冷机与超导磁体集成系统
无液氦稀释制冷机与超导磁体集成系统
无液氦脉冲管低温恒温器OptistatPTR
无液氦脉冲管低温恒温器OptistatPTR
无液氦超导磁体
无液氦超导磁体
无液氦超导磁体低温系统TeslatronPT
无液氦超导磁体低温系统TeslatronPT
无液氦超导磁光系统SpectromagPT
无液氦超导磁光系统SpectromagPT
显微光谱恒温器MicrostatHiResII
显微磁光测量MicrostatMO
显微磁光测量MicrostatMO
枪击残留物自动分析系统：INCAGSR
样品在真空中的3He恒温器HelioxVL
模块化稀释制冷机KelvinoxMX
沉积a-Si—沉积非晶硅（等离子体增强化学气相沉积）
沉积Al2O3-沉积三氧化二铝
沉积HfN—沉积氮化铪（远程等离子体完全辅助）
沉积ITO—沉积铟锡氧化物—磁控溅射
沉积La2O3—沉积氧化镧
沉积PolySi—沉积多晶硅
沉积Ru—沉积钌
沉积SiC—沉积碳化硅
沉积SiN—沉积氮化硅
沉积SiO2—沉积二氧化硅
沉积TiO2—沉积二氧化钛—离子束沉积
液氦温区变温恒温器Variox
液氦自冷凝系统IntegraAC
液氦零蒸发超导磁体
液氮制冷Si(Li)探头 : INCAPentaFET-x3
液氮恒温器OptistatDN
液氮恒温器OptistatDN-V
液氮温区显微光谱恒温器MicrostatN
深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓
混合刻蚀Si—八氟环丁烷-六氟化硫刻蚀硅
溅射刻蚀Au—溅射刻蚀金
溅射沉积Al—溅射沉积铝
生产设备
生长Si纳米线—生长硅纳米线
生长ZnO纳米线—生长氧化锌纳米线
生长碳纳米管
用于NMR的低温恒温器SpectrostatNMR
用于PVD的System 400磁控溅射设备
用于失效分析的Cu刻蚀（反应离子刻蚀）—刻蚀铜
矢量旋转磁体系统
研发-研发设备
硅化钨（WSi）刻蚀技术
硅烷化光刻胶的干法显影（感应耦合等离子体-反应离子刻蚀）—硅烷化光刻胶
磁光系统SpectroMag
磁光系统SpectroMag
磁光超导磁体系统
磁力显微镜、静电力显微镜（MFM、EFM）
离子束刻蚀Ni—刻蚀镍铬合金
离子束沉积VaO( 5 - x )--沉积氧化钒 Deposition
移动式直读光谱仪(PMI-MASTER PRO)
移动式直读光谱仪(TEST-MASTER PRO)
等离子体增强化学气相沉积DLC—沉积类金刚石膜
等离子体增强化学气相沉积和化学气相沉积SiGe—沉积锗硅
系统支持功能
紧凑型氦三恒温器HelioxVT
绝缘层上的硅(SOI)的多层刻蚀
绝缘材料上的硅的多步刻蚀（ Bosch）技术
聚二甲基硅氧烷(PDMS)刻蚀
自旋分辨电子能量分析器SPLEED
蓝宝石衬底上外延生长氮化镓
薄膜成分及厚度测量：ThinFilmID
螺线管超导磁体
超导磁体电流源 Mercury iPS
超高真空低温强磁场系统
超高真空液氦冷头Ultrastat
连续流显微恒温器MicrostatHe
连续流显微恒温器矩形尾头MicrostatHe
适配于VTI的稀释制冷机KelvinoxVT
钛（Ti）深刻蚀技术
钢的夹杂物分析：INCASteel
铌三锡RRP线材
铌三锡低损耗线材
铌钛线嵌入铜基线材
铌钛细径线材
铌钛铜基线材
铌钛铜镍基线材
镍（Ni）的离子束刻蚀
顶部取样光学恒温器VarioxAC-TL
顶部取样光学恒温器VarioxAC-TL
顶部取样式氦三系统HelioxTL
顶部取样插杆式稀释制冷机KelvinoxTLM
颗粒检测、分析及分类：INCAFeature
高压电源-75W50kV1-5MA-OEM
高品质光学镀膜：二氧化硅，二氧化钛，五氧化二钽
高均匀度磁体
高稳定性液氦恒温器OptistatSXM
高通路稀释制冷机400HA
高速准确的颗粒分析系统—FeatureMax
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