等离子体技术

牛津仪器等离子体技术为客户的研究、开发、生产提供一系列高性能、灵活易用的半导体处理工具。我们致力于以下三个领域的研究：

• 刻蚀
  RIE, ICP, DRIE, RIE/PE, Ion Beam
• 沉积
  PECVD, ICP CVD, Nanofab, ALD, PVD, IBD
• 生长
  HVPE, Nanofab

客户支持
牛津仪器致力于为客户的成功提供支持和服务。我们认识到这需要牛津仪器的世界级的产品，以及世界级的服务和支持。